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Grabado de red holográfica en material fotorrefractivo

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  • 2o ciclo Grabado de red holográfica en material fotorrefractivo

    Hola a todos,

    Estoy desarrollando un experimento sobre cómo estudiar la cinética de grabado/borrado de redes holográficas en un material fotorrefractivo y tengo algunas dudas sobre el procedimiento a seguir. Dispongo de un láser He-Ne monomodo de luz monocromática de longitud de onda 632.8 nm y el material fotorrefractivo es una placa de LiNbO3 de 0.5 cm de grosor y 1 cm de largo por 1 cm de ancho, aproximadamente.

    En primer lugar, para grabar una red holográfica en el material, he construido un interferómetro de Michelson y he situado la placa de LiNbO3 en el extremo donde confluyen los dos haces, de tal forma que se ha generado el patrón de interferencia en la superficie de la placa de LiNbO3. Ajustando los espejos, los haces interfieren de tal manera que las franjas del patrón son todas verticales y la separación entre ellas son del orden de micras. Según tengo entendido para grabar la red holográfica, es necesario dejar un tiempo la placa expuesta a ese patron de interferencia.

    Es aquí cuando me surgen las primeras dudas:

    1. Lo que he hecho hasta ahora, ¿sería correcto o se debe hacer de otra forma?
    2. ¿Cúanto tiempo hay que dejar la placa de LiNbO3 expuesta al patrón de interferencia?
    3. ¿Hay que hacerlo en completa oscuridad o se puede hacer con las luces de la habitación encendidas?

    Y después tengo otras dudas sobre los siguientes pasos a seguir en mi análisis.

    4. ¿Qué instrumentación necesitaría para estudiar la cinética de grabado?
    5. ¿Cómo se borra la red grabada en el cristal?

    Les agradezco de antemano su ayuda y si me pudieran recomendar algún artículo o libro para seguir indagando también se lo agradecería mucho.

    Saludos.
    Última edición por webcorreos; 15/11/2022, 20:48:54. Motivo: óptica

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